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硅片的制备,切片磨片和抛光方法简介
粗磨:用熔化的石蜡和松香(2:1)将硅圆片平整地粘附在铝板上,冷却后,轻轻地括去铝板和硅片上多余的石蜡松香。然后,在玻璃板上用303号金刚砂加一些水研磨之。粗磨的主要目的是把各个硅片都研磨到同一平面上。因此,粗磨到各片都处于同一平面时,即可转入细磨。
细磨:粗磨后各片都处于同一平面了,但是,粗磨磨料的颗粒度很大,粗磨后的硅表面还是比较粗糙的,如果马上进行拋光的话,需要很长的时间,才能抛好。细磨就是用颗粒度较小的磨料研磨硅片,使之表面光滑些,从而缩短抛光时间。细磨前先要用自来水冲洗去粗磨的金刚砂,再用305号颗粒度较小的金刚砂研磨之。细磨后的硅片表面应无划痕。
粗抛:用自来水冲掉片子上残留的金刚砂,然后装在抛光机上进行抛光。拋光液为1:75的氧化镁水溶液,抛光布用呢或毡都可以。抛光时间一般为四至五小时。
细抛:用丝绒拋光五至六小时。
抛光结束后,用自来水冲洗片子,彻底地清除片子上残存的氧化镁,然后再用热水熔化石蜡松香,使片子从铝板上脱落下来。随即用洗液烧煮数次,然后,再用大量去离子水冲洗,最后进行干燥,仔细保藏。
良好的抛光表面应是光亮如镜,并且无划痕、麻点、桔皮、倒角等毛病。
氧化镁抛光液呈很弱的碱性,对硅片有微弱的腐蚀作用。温度较髙时,腐蚀作用加剧会产生泡沫,影响抛光质最。所以,在炎热的夏天抛光时,氧化镁要用冰冷却。在常温,氧化镁对硅片的腐蚀作用虽很弱。但是,如果抛光后残留的氧化镁未冲洗掉,时间一长,也会对硅片表面产生腐蚀作用。因此,一定要将抛光后残留的氧化镁冲洗干净。
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