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采用有机添加剂及卤素释放剂联合使用的镀铬液被称为“第三代镀铬溶液”,它们的共同特点是:阴极电流效率高达22%~27%,不含F一,不腐蚀基体;覆盖能力强,HV亦高达1000以上,既可用于镀硬铬,也可用于镀微裂纹铬,配合双层或三层镍工艺,用于汽车或摩托车减振器的电镀,已开始在机械行业获得应用。
有机添加剂包括有机羧酸、有机磺酸及其盐类等。卤素释放剂是指碘酸钾、溴酸钾、碘化钾及溴化钾等。有机添加剂在镀液中的作用机理尚待查明,一般认为有机物的加入活化了基体金属,使镀液的覆盖能力得到改善;使析氢过电位增加,提高电流效率;并由于有机物的夹带,形成碳化铬而使镀层硬度增大
有机添加剂镀铬液的工艺规范
①烷基磺酸中s/c≥1,电流效率可达27%,HV>1i00。
②含氮有机化合物:烟酸、甘氨酸、异烟酸、吡啶、2一氨基吡啶、3一氯代吡啶、皮考啉酸。
③HEEF(High Efficiency Etch Free)高效能、无低电流区腐蚀,阴极电流效率达25%,900~1000HV。开缸成分为:HEEF25550mL/L,硫酸2.7g/L,温度55~60℃,电解4~6h,(电压>6V,阴阳面积比l5:1)。
④Ly-2000添加剂t天津中盛表面技术公司产品。补加量为4~6mL/(kA)。
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