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低浓度铬酐镀铬工艺

1409 人参与  2013年02月02日 02:37  分类 : 电镀技术 电镀工艺 电镀设备  评论

低浓度铬酐镀铬工艺是指镀铬液中铬酐含量在30～60g／L的镀铬工艺，铬酐使用量只有普通标准镀铬工艺的l／5～1／8，既减轻了铬酐对环境的污染，又节约了大量的原材料。

低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件

低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件

采用低铬酐镀铬工艺可以获得装饰性铬镀层和硬铬镀层，其光泽性、硬度、结合力以及裂纹等方面，均能满足质量要求。但有时镀层表面会出现黄膜或彩色膜，可在5％的硫酸溶液中除去，然后在碱性溶液中清洗。
低铬酐镀铬液的分散能力比常规镀铬电解液好，但深镀能力比较差，这给形状复杂的零件带来了一定困难。同时，电导率下降，槽电压升高，因而能耗高，镀液升温快。低铬酐镀铬的阴极电流效率达到l8％～20％。
由于上述原因，使得低铬酐镀铬工艺受到一定的限制，目前的研究方向集中在寻求新的催化剂，以改善镀液性能，降低槽电压。

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本文标签：电镀  铬  

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