1962年R．D．Fisher报告了电镀钴的磁特性作为高密度磁记录器镀层，引起广泛的重视，随之研究化学镀钴作为强磁性薄膜。钴的标准电极电势为-0．28V，比镍的-0．25V负，在用次磷酸盐做还原剂的酸性溶液中C0的沉积速度很慢，甚至得不到钴的镀层。只有在碱性溶液中才能有合适的沉积速度。化学镀钴的机理与化学镀镍相类似。
化学镀钴通常采用柠檬酸盐、酒石酸盐和铵盐为配位体。配位体除能防止产生碱性盐沉淀外，会对镀液的沉积速度和镀层性能产生影响。ph值调整剂采甩氨水，不采用氢氧化钠，因为后者会使镀液的沉积速度变慢。
(二)化学镀钴溶液的配制
用纯水溶解计算量的配位体，然后在搅拌下加入溶解好的钴盐，若出现混浊，继续搅拌至全部溶解，然后加入溶解好的次磷酸盐，加纯水接近总体积，然后用氨水调节pH值至规范，加纯水至总体积，过滤后即可使用。
(三)化学镀钴层的特性和用途
化学镀钴层是以P在01—C0中的过饱和固溶体为主，x射线衍射图谱在2Θ≈53。，570及610处分别出现hcp结构的Co(100)、(102)、(101)晶面衍射峰。镀态硬度HV500～HV600(叫(P)为4％～6％时)，经5000C1h热处理可析出大量的C02P相，硬度上升为HV900～HVl000。
钴的居里温度(失去磁性的温度)是1150℃，而铁的是769℃，镍的是358℃。钴是磁化一次能保持磁性的少数金属之一。化学镀钴层的矫顽力依磷含量不同而异，即随次磷酸盐增
加和pH值下降而增大。因化学镀钴可获得各种十分不同的磁性能，所以广泛用于记忆存储器元件。
除用于磁记录材料外，在Ni(OH)2及泡沫镍上化学镀钴，可明显改善Ni—MH电池的大电流放电性能。
